嘉兴科民电子设备技术有限公司
企业简介

嘉兴科民电子设备技术有限公司 main business:电子设备、通用仪器、新材料领域内的技术开发、技术服务、技术咨询、技术转让;电子工业专用设备、半导体材料、工业自动控制系统装置、电工仪器仪表、实验分析仪器的制造、加工、销售;金属材料、化工产品、电子元器件、光电子器件、印刷电路板的销售;从事进出口业务。 and other products. Company respected "practical, hard work, responsibility" spirit of enterprise, and to integrity, win-win, creating business ideas, to create a good business environment, with a new management model, perfect technology, attentive service, excellent quality of basic survival, we always adhere to customer first intentions to serve customers, persist in using their services to impress clients.

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嘉兴科民电子设备技术有限公司的工商信息
  • 330402000061545
  • 913304025528993846
  • 存续
  • 私营有限责任公司(自然人控股或私营性质企业控股)
  • 2010-04-07
  • 夏洋
  • 600万元人民币
  • 2010-04-07 至 永久
  • 南湖区行政审批局
  • 浙江省嘉兴市南湖区亚太路778号(嘉兴科技城)9号楼303室
  • 电子设备、通用仪器、新材料领域内的技术开发、技术服务、技术咨询、技术转让;电子工业专用设备、半导体材料、工业自动控制系统装置、电工仪器仪表、实验分析仪器的制造、加工、销售;金属材料、化工产品、电子元器件、光电子器件、印刷电路板的销售;从事进出口业务。
嘉兴科民电子设备技术有限公司的专利信息
序号 公布号 发明名称 公布日期 摘要
1 CN104746039A 一种铝掺杂氧化锌薄膜的制备方法 2015.07.01 本发明涉及原子层沉积技术领域,具体涉及一种铝掺杂氧化锌薄膜的制备方法,包括如下步骤:向原子层沉积设备
2 CN104195523A 一种等离子体增强原子层沉积铝掺杂氧化锌薄膜方法 2014.12.10 本发明涉及一种等离子体增强原子层沉积制备铝掺杂氧化锌薄膜制备方法。通过将n次氧化锌基体薄膜ALD沉积
3 CN102403252B 一种辅助刻蚀工艺的自动硅片装片机 2014.01.01 一种辅助刻蚀工艺的自动硅片装片机,包括机架,所述机架的操作平台上安装有带空腔的底座,所述底座上连接有
4 CN203175096U 一种太阳能车棚 2013.09.04 本实用新型涉及太阳能技术领域,特别涉及一种太阳能车棚,包括反射元件、至少两个太阳能电池组件、棚体及与
5 CN302072349S 原子层沉积设备 2012.09.12 1.本外观设计产品的名称:原子层沉积设备。2.本外观设计产品的用途:微电子器件制造以及光伏产业的薄膜
6 CN102618848A 一种立式原子层沉积设备 2012.08.01 本发明公开了一种立式原子层沉积设备,属于原子层沉积设备技术领域。该设备包括主腔室和送片机构,送片机构
7 CN102560422A 多片远程等离子体增强原子层沉积腔室 2012.07.11 多片远程等离子体增强原子层沉积腔室,包括真空腔室,所述真空腔室内安装有能放置多片样品的样品台架,所述
8 CN102534561A 一种工业原子层沉积腔室结构 2012.07.04 一种工业原子层沉积腔室结构,包括真空反应腔室,所述真空反应腔室上设有真空反应腔盖,所述真空反应腔室内
9 CN102534569A 一种常压辉光等离子体增强原子层沉积装置 2012.07.04 一种常压辉光等离子体增强原子层沉积装置,包括主腔室,所述主腔室内设有前驱体源进气管道口、等离子发生器
10 CN202307837U 一种辅助刻蚀工艺的自动硅片装片机 2012.07.04 一种辅助刻蚀工艺的自动硅片装片机,包括机架,所述机架的操作平台上安装有带空腔的底座,所述底座上连接有
11 CN301959903S 原子层沉积系统(2) 2012.06.20 1.本外观设计产品的名称:原子层沉积系统(2)。2.本外观设计产品的用途:为实验室和工业小型化产量用
12 CN301959904S 原子层沉积系统(1) 2012.06.20 1.本外观设计产品的名称:原子层沉积系统(1)。2.本外观设计产品的用途:为实验室和工业小型化产量用
13 CN301883050S 热型原子层沉积设备机柜(TALD) 2012.04.11 1.本外观设计产品的名称:热型原子层沉积设备机柜(TALD)。2.本外观设计产品的用途:用于原子层薄
14 CN102403252A 一种辅助刻蚀工艺的自动硅片装片机 2012.04.04 一种辅助刻蚀工艺的自动硅片装片机,包括机架,所述机架的操作平台上安装有带空腔的底座,所述底座上连接有
15 CN102400113A 远程脉冲射频电感耦合放电等离子体增强原子层沉积装置 2012.04.04 远程脉冲射频电感耦合放电等离子体增强原子层沉积装置,包括真空系统、远程脉冲等离子体发生系统、前驱体源
16 CN301872695S 原子层沉积设备机柜(PEALD机柜) 2012.03.28 1.本外观设计产品的名称:原子层沉积设备机柜(PEALD机柜)。2.本外观设计产品的用途:用于原子层
17 CN102392229A 一种原子层沉积设备 2012.03.28 本发明涉及一种原子层沉积设备,包括反应腔和光源装置;所述反应腔的腔体内设有基板,用来放置衬底材料;所
18 CN301872694S 原子层沉积设备腔室(PEALD腔室) 2012.03.28 1.本外观设计产品的名称:原子层沉积设备腔室(PEALD腔室)。2.本外观设计产品的用途:用于原子层
19 CN102392228A 一种用于原子层沉积设备的进气方法 2012.03.28 本发明涉及原子层沉积设备技术领域,具体涉及一种用于原子层沉积设备的进气方法。所述进气方法包括:将两种
20 CN102368474A 一种干法刻蚀无机材料基板等离子体刻蚀机的传片系统 2012.03.07 一种干法刻蚀无机材料基板等离子体刻蚀机的传片系统,其安装在预真空腔内,包括运送片盘的机械手,所述机械
21 CN102368475A 一种干法刻蚀坚硬无机材料基板的装置 2012.03.07 一种干法刻蚀坚硬无机材料基板的装置,包括主支架和副支架,所述主支架上安装有刻蚀腔和分子泵,所述刻蚀腔
22 CN102368466A 一种干法刻蚀坚硬无机材料基板等离子体刻蚀机的电极 2012.03.07 一种干法刻蚀坚硬无机材料基板等离子体刻蚀机的电极,包括用于与刻蚀腔固定连接的导轨器,所述导轨器内安装
23 CN102368473A 一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的预真空腔 2012.03.07 一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的预真空腔,包括腔体,所述腔体上安装有腔盖,所述腔盖上开有片
24 CN102368469A 一种新型ICP刻蚀机预真空腔的盖子 2012.03.07 一种新型ICP刻蚀机预真空腔的盖子,其安装在预真空腔上,包括盖子主体,所述盖子主体上设有观察窗,所述
25 CN102368465A 一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的刻蚀腔 2012.03.07 一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的刻蚀腔,包括腔体,所述腔体上开有进出片口、机械泵接口、下电
26 CN102352491A 一种用于原子层沉积设备的进气方法 2012.02.15 本发明涉及原子层沉积设备技术领域,具体涉及一种用于原子层沉积设备的进气方法。所述进气方法为:装有不同
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